Высоковольтный импульсный источник для питания холодных плазменных струй
Российская академия наук, Программа Президиума РАН , 31
Мошкунов С.И.
1, Хомич В.Ю.
1, Шершунова Е.А.
11Институт электрофизики и электроэнергетики РАН, Санкт-Петербург, Россия
Email: serg-mochkunov@yandex.ru, khomich@ras.ru, eshershunova@gmail.com
Поступила в редакцию: 17 сентября 2018 г.
Выставление онлайн: 20 января 2019 г.
Проведено исследование параметров ряда высоковольтных твердотельных коммутаторов. На основании анализа их работы собран импульсный источник высокого напряжения размером 105x 260x 180 mm для питания холодных плазменных струй, работающий от сети переменного напряжения 220 V, 50 Hz.
- Weltmann K.D., von Woedtke T. // Plasma Phys. Control. Fusion. 2016. V. 59. N 1. P. 014031
- Miller V., Lin A., Fridman A. // Plasma Chem. Plasma Process. 2016. V. 36. N 1. P. 259--268
- Laroussi M. // IEEE Transact. Plasma Sci. 2015. V. 43. N 3. P. 703--712
- Reuter S., von Woedtke T., Weltmann K.D. // J. Phys. D: Appl. Phys. 2018. V. 51. N 23. P. 233001
- Lunov O., Zablotskii V., Churpita O., Chanova E., Sykova E., Dejneka A., Kubinova vS. // Sci. Rep. 2014. V. 4. P. 7129
- Xu N., Cui X., Fang Z., Shi Y., Zhou R. // IEEE Transact. Plasma Sci. 2018. V. 46. N 4. Pt 2. P. 947--953
- Малашин М.В., Мошкунов С.И., Хомич В.Ю., Шершунова Е.А. // Приборы и техника эксперимента. 2016. N 2. С. 71--75
- Мошкунов С.И., Хомич В.Ю., Шершунова Е.А. // Письма в ЖТФ. 2018. Т. 44. В. 2. С. 104--110
- Lu X., Laroussi M., Puech V. // Plasma Sources Sci. Technol. 2012. V. 21. N 3. P. 034005
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.