Вышедшие номера
Исследование поверхностной проводимости двойного слоя таллия на Si(111) после адсорбции лития и рубидия
Переводная версия: 10.1134/S1063785018050255
Рыжкова М.В.1, Борисенко Е.А.1, Иванченко М.В.1,2, Цуканов Д.А.1,2, Зотов А.В.1,2, Саранин А.А.1,2
1Институт автоматики и процессов управления ДВО РАН, Владивосток, Россия
2Дальневосточный федеральный университет, Владивосток, Россия
Email: tsukanov@iacp.dvo.ru
Поступила в редакцию: 19 января 2018 г.
Выставление онлайн: 19 апреля 2018 г.

Представлены результаты исследования двойного слоя таллия Si(111)6x 6-Tl после адсорбции лития и рубидия методом дифракции медленных электронов и четырехзондовым методом измерения проводимости. Обнаружены новые реконструкции: 5x 1 и 5sqrt(3)sqrt в случае адсорбции лития, 2x 2 и sqrt(3)sqrt в случае адсорбции рубидия. Исследована поверхностная проводимость подложек кремния в зависимости от дозы осажденного вещества. Показано, что при формировании реконструкций и 5x 1 и 2x 2 на поверхности подложки сохраняются проводящие свойства двумерного канала, образованного двойным слоем таллия.