Вышедшие номера
Home » Письма в журнал технической физики » Год 2017, выпуск 22 » Статья стр. 10
<<<>>>
Особенности экспериментальных спектров лазерной плазмы с плотной Xe газоструйной мишенью в дальнем ультрафиолетовом диапазоне
DOI: 10.21883/PJTF.2017.22.45255.16957
ОФН РАН, ”Фундаментальные проблемы лазерных технологий“
Белик В.П.1, Калмыков С.Г.1, Можаров А.М.2, Петренко М.В.1, Сасин М.Э.1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
2Санкт-Петербургский национальный исследовательский Академический университет имени Ж.И. Алфёрова Российской академии наук, Санкт-Петербург, Россия
Email: Serguei.Kalmykov@mail.ioffe.ru
Поступила в редакцию: 7 июля 2017 г.
Выставление онлайн: 20 октября 2017 г.
PDF версия
Описываются спектры свечения в диапазоне длин волн 5-25 nm лазерной плазмы, создаваемой на газовой струе из Xe и смеси Xe + Ar с плотностью атомов до 7· 1018 cm-3. В спектрах Xe отсутствуют дискретные спектральные линии, но в полосе 9-14 nm наблюдается широкий непрерывный пик излучения, максимум которого при вариациях условий эксперимента обнаруживает закономерное смещение по шкале длин волн, которое приписывается соответствующему изменению температуры плазмы. Другой особенностью является лишь незначительное уменьшение интенсивности свечения Xe при сильном разбавлении мишени аргоном. DOI: 10.21883/PJTF.2017.22.45255.16957
  1. Levinson H.J. // 2016 Int. Workshop on EUV lithography, CXRO, LBNL, Berkeley (USA), 2016. P. 1; https://www.euvlitho.com/2016/P1.pdf
  2. Chkhalo N.I., Salashchenko N.N. // AIP Adv. 2013. V. 3. P. 082130
  3. Fiedorowicz H. et al. // X-ray optics and microanalysis, Bristol: IOP Publ., 1992. P. 515
  4. Fiedorowicz H. et al. // Appl. Phys. Lett. 1993. V. 62. P. 2278
  5. Bogachev S.A. et al. // Appl. Opt. 2016. V. 55. P. 2126
  6. Kramida A. et al. NIST Atomic Spectra Database. NIST, Gaithersburg, 2014; http://physics.nist.gov/asd
  7. Stamm U., Gabel K. // EUV sources for lithography/Ed. Bellingham (USA): / Ed. SPIE Press, 2006. Ch. 19
  8. O'Sullivan G. // 2011 Int. Workshop on EUV lithography, Maui, Hawaii, 2011. P. 2; http://www.euvlitho.com/2011/P2.pdf
  9. Garbaruk A.V. et al. // J. Phys. D: Appl. Phys. 2017. V. 50. P. 025201
  10. Белик В.П. и др. // Письма в ЖТФ. 2011. Т. 37. В 21. С. 102
  11. Гарбарук А.В. и др. // ЖТФ. 2011. Т. 81. В. 6. С. 20
  12. Chung H.-K. et al. // High Energy Density Phys. 2005. V. 1. P. 3
  13. Bergmann K. et al. // J. Appl. Phys. 2009. V. 106. P. 073309

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.

Учредители

Издатель

© 2024 Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук
Powered by webapplicationthemes.com - High quality HTML Theme