Вышедшие номера
Туннельные диоды GaAs:Si/GaAs:Be для многопереходных солнечных элементов, выращиваемые методом молекулярно-пучковой эпитаксии
Климко Г.В.1, Комиссарова Т.А.1, Сорокин C.В.1, Контрош Е.В.1, Лебедева Н.М.1, Усикова А.А.1, Ильинская Н.Д.1, Калиновский В.С.1, Иванов С.В.1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Email: gklimko@mail.ru
Поступила в редакцию: 27 апреля 2014 г.
Выставление онлайн: 20 августа 2015 г.

Представлены результаты оптимизации конструкции и технологии роста методом молекулярно-пучковой эпитаксии гетероструктур туннельных диодов (ТД) N-AlGaAs : Si/n+-GaAs : Si/p+-GaAs : Be/P-AlGaAs:Be. Достигнутый уровень пикового тока Jp=513 A/cm2 позволяет использовать полученный ТД для соединения каскадов как в структурах многопереходных солнечных элементов, так и в структурах туннельно-связанных лазерных диодов. Наблюдающаяся нелинейность начального хода ВАХ объясняется остаточным потенциальным барьером в изотипном p+-P-p+-гетеропереходе, ограничивающим активную область ТД, вследствие неоптимального легирования твердого раствора Al0.4Ga0.6As.