"Письма в журнал технической физики"
Вышедшие номера
Подавление рэлей-тейлоровских неустойчивостей в Z-пинчах
Жигалин А.С., Русских А.Г., Бакшт Р.Б., Чайковский С.А., Лабецкая Н.А., Орешкин В.И.
Поступила в редакцию: 16 января 2015 г.
Выставление онлайн: 20 мая 2015 г.

Эксперименты по исследованию стабильности сжатия Z-пинчей проводились при токе 450 kA со временем нарастания 450 ns. Плазменная оболочка пинчей формировалась с помощью испарения материала электродов при горении вакуумной дуги. Для подавления рэлей-тейлоровских (РТ) неустойчивостей использовался режим горения дуги на поверхности одного из электродов высоковольтного промежутка, в котором располагается пинч. В результате свободного истечения плазмы радиальное распределение плотности формировалось таким образом, что концентрация плазмы нарастала от внешней границы по направлению к оси оболочки. Эксперименты показали, что такое начальное радиальное распределение плотности обеспечивает практически полное подавление РТ-неустойчивости.
  1. Haines M.G. // Plasma Phys. Control. Fus. 2011. V. 53. P. 093 001
  2. Браницкий А.В., Александров В.В., Грабовский Е.В., Заживихин В.В., Зурин М.В., Медовщиков С.Ф., Недосеев С.Л., Олейник Ж.М., Смирнов В.П., Фролов И.Н., Федулов М.В. // Физика плазмы. 1999. Т. 25. С. 976--982
  3. Slutz S. A., Herrmann M.C., Vesey R.A., Sefkow A.B., Sinars D.B., Rovang D.C., Peterson K.J., Cuneo M.E. // Phys. Plasmas. 2010. V. 17. P. 056 303
  4. Velikovich A.L., Cochran F.L., Davis J. // Phys. Rev. Lett. 1996. V. 77. P. 853
  5. Бакшт Р.Б., Дацко И.М., Ким А.А. и др. // Физика плазмы. 1995. Т. 21. N 11. C. 959--965
  6. Labetsky A.Yu., Baksht R.B., Oreshkin V.I. et al. // IEEE Transactions on Plasma Science. 2002. V. 30. N 2. P. 524--531
  7. Орешкин В.И. // Письма в ЖТФ. 2013. Т. 39. В. 15. С. 1--11
  8. Rоusskikh A.G., Zhigalin A.S., Oreshkin V.I. et al. // Phys. Plasmas. 2011. V. 18. P. 092 707
  9. Русских А.Г., Бакшт Р.Б., Жигалин А.С. и др. // Физика плазмы. 2012. Т. 38. N 8. C. 651--658
  10. Baksht R.B., Rоusskikh A.G., Zhigalin A.S., Oreshkin V.I. // IEEE Transactions on Plasma Science. 2013. V. 41. N 1. P. 182--186
  11. Baksht R.B., Oreshkin V.I., A.G. Rousskikh // Physics Plasmas. 2013. V. 20. P. 082 701
  12. Anders A., Yushkov G.Yu. // Appl. Phys. Lett. 2002. V. 80. P. 2457
  13. Афонин В.И. // Физика плазмы. 2001. Т. 27. С. 614--619

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.