Вышедшие номера
Процесс формовки в элементах резистивной памяти на основе структур металл-диэлектрик-полупроводник
Тихов С.В.1, Горшков О.Н.2, Антонов И.Н.2, Касаткин А.П.1, Коряжкина М.Н.1
1Нижегородский государственный университет им. Н.И. Лобачевского, Нижний Новгород, Россия
2Научно-исследовательский физико-технический институт ННГУ, Нижний Новгород
Email: mahavenok@mail.ru
Поступила в редакцию: 30 апреля 2014 г.
Выставление онлайн: 19 сентября 2014 г.

На примере структур металл-диэлектрик-полупроводник на основе GaAs со стабилизированным (оксидом иттрия) диоксидом циркония, проявляющих эффект резистивной памяти, показана возможность контроля происходящих при формовке явлений как в диэлектрике, так и на границе раздела диэлектрик-полупроводник и в полупроводнике путем измерения отклика полупроводника.