"Письма в журнал технической физики"
Вышедшие номера
Влияние кислорода на взаимодействие и работу выхода в структурах Ba--Si и BaO--Si
Ильченко В.В.1, Кузнецов Г.В.1
1Киевский национальный университет им. Тараса Шевченко, Киев, Украина
Поступила в редакцию: 2 ноября 2000 г.
Выставление онлайн: 19 марта 2001 г.

Исследовано влияние кислорода на процессы химического взаимодействия в структурах Ba-Si и BaO-Si. Нанесение тонких слоев Ba и BaO стимулирует процессы окисления поверхности кремния. При температурах Ts<= 500oC на поверхности кремниевой подложки образуется слой ортосиликата бария Ba2SiO4. Уменьшение работы выхода поверхности кремниевой подложки позволяет увеличить эмиссионные токи более чем на порядок как при формировании оксидного, так и силикатного слоя бария.
  1. Spindt C., Holland C., Rosengreen A., Brodie I. // IEEE Trans. Electron. Device. 1991. V. 38. N 10. P. 2355--2361
  2. Никонов Б.П. Оксидный катод. М., 1979. 240 с
  3. Усманов М.Т., Джуманов И.З., Ташатов А.К., Умирзаков Б.Е. // Взаимодействие ионов с поверхностью. Матер. XIII межд. конф. М., 1997. Т. 2. С. 311
  4. Belousov I.V., Ilchenko V.V., Kuznetsov G.V., Ruban A.I., Strikha V.I. // IEEE Trans. Appl. Superconducting. 1995. V. 5. N 2. P. 1510--1512
  5. Нефедов В.И. Рентгено-электронная спектроскопия химических соединений. Справочник. М., 1984. 256 с

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.