Вышедшие номера
Энергия разрушения адсорбированной пленки окиси углерода на монокристалле вольфрама
Голубев О.Л.1, Шредник В.Н.1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Поступила в редакцию: 7 февраля 2000 г.
Выставление онлайн: 20 мая 2000 г.

В полевом эмиссионном микроскопе исследовались адсорбция и десорбция окиси углерода на монокристалле вольфрама. Наиболее интересные эффекты наблюдались при десорбции в окружении граней куба 100 . По мере десорбции к полюсам < 100> стягивалась электроположительная пленка, сохранявшая резкую границу. Энергия десорбции, определенная по скорости движения границы (по методу прямых Аррениуса), равная 3.4± 0.1 eV, свидетельствовала о значительной прочности пленки окиси углерода. Поведение десорбирующейся фазы CO в областях 100 W можно непротиворечиво объяснить, допустив, что эта фаза образована сеткой диполей CO, нормальных к поверхности и обращенных атомом углерода к вакууму.