"Письма в журнал технической физики"
Издателям
Вышедшие номера
Обратимое формирование фоторельефов при структурной релаксации полимерного слоя
Могильный В.В.1, Грицай Ю.В.1
1Белорусский государственный университет Минск
Поступила в редакцию: 17 июля 1995 г.
Выставление онлайн: 19 ноября 1995 г.

  1. Могильный В.В., Грицай Ю.В. ЖТФ. 1994. Т. 64. N 7. С. 99--105
  2. Colburn W.S., Haines K.A. Appl. Opt. 1971. V. 10. N 7. P. 1636--1641
  3. Смирнова Т.Н., Сахно О.В., Тихонов Е.А. и др. Опт. и спектр. 1994. Т. 76. N 5. С. 805--809
  4. Tomlinson W.J., Chandross E.A., Folk R.L. et al. Appl. Opt. 1972. V. 11. N 3. P. 533--548
  5. Mogilny V.V., Gritsai Yu.V. Proc. SPIE. 1994. V. 2429. P. 79--86
  6. Лазарева А.М., Мазуренок Л.А., Могильный В.В. и др. Химия высоких энергий. 1989. Т. 23. N 5. С. 430--434
  7. Дзюба С.А., Цветков Ю.Д. Динамика молекул в неупорядоченных средах. Новосибирск: Наука, 1991. 118 с
  8. Ростиашвили В.Г., Иржак Б.А., Розенберг В.И. Стеклование полимеров. Л.: Химия, 1987. 192 с
  9. Goldstein M. J. Chem. Phys. 1969. V. 51. N 9. P. 3728--3739

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.