Измерение скорости объемного нагрева тонких металлических пленок на кремнии в плазме ВЧ разряда
Магунов А.Н.1
1Институт микроэлектроники Ярославль
Поступила в редакцию: 23 апреля 1993 г.
Выставление онлайн: 20 января 1994 г.
- Chapman B. Glow discharge processes: sputtering and plasma etching. N.Y.: Wiley, 1980. 350 p
- Selamoglu N., Mucha J.A., Flamm D.L., Ibbotson D.E. J. Appl. Phys. 1987. V. 62. N 3. P. 1049--1053
- Porkolab G.A., Wolf E.D. Appl. Phys. Lett. 1990. V. 56. N 23. P. 2319--2321
- Chen M.M., Lee Y.H. J.Electrochem. Soc. 198. V. 131. N 9.P. 2118--2123
- Тихонова Э.А., Тянгинский А.Ю., Шаронова Е.П. Электронная техника. Сер. 3. Микроэлектроника. 1987. В. 3. С. 84--87
- Иванов Ю.А., Лебедев Ю.А., Полак Л.С. Методы контактной диагностики в неравновесной плазмохимии. М.: Наука, 1981. 144 с
- Магунов А.Н., Мудров Е.В. ТВТ. 1992. Т. 30. В. 2. С. 372--378
- Hofer O.H. J. Vac. Sci. Technol. A. 1987. V. 5. N 4. P. 2213--2216
- Кулик П.П., Рябый В.А., Ермохин Н.В. Неидеальная плазма. М.: Энергоатомиздат, 1984. 200 с
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.
© 2024 Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук