Письма в журнал технической физики
Авторам
Вышедшие номера
- 2025
- 2024
- 2023
- 2022
- 2021
- 2020
- 2019
- 2018
- 2017
- 2016
- 2015
- 2014
- 2013
- 2012
- 2011
- 2010
- 2009
- 2008
- 2007
- 2006
- 2005
- 2004
- 2003
- 2002
- 2001
- 2000
- 1999
- 1998
- 1997
- 1996
- 1995
- 1994
- 1993
- 1992
- 1991
- 1990
- 1989
- 1988
Верхняя оценка коэффициента конверсии лазерно-плазменного источника коротковолнового излучения для нанолитографии
Калмыков С.Г.1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия 
Email: Serguei.Kalmykov@mail.ioffe.ru
Поступила в редакцию: 26 мая 2009 г.
Выставление онлайн: 20 октября 2009 г.
Лазерная плазма рассматривается в качестве источника излучения в EUV-диапазоне для нужд нанолитографии. В предположении плазмы, излучающей как черное тело, получена верхняя оценка коэффициента конверсии такого источника. Рассматриваются перспективы повышения эффективности реальных плазм, используемых в этом качестве. PACS: 52.38.Dx, 52.50.Jm
- Сейсян Р.П. // ЖТФ. 2005. Т. 75. С. 1
- Домрачева И.В. и др. // Письма в ЖТФ. 2007. Т. 33. В. 22. С. 9
- Schriever G. et al. // J. Vac. Sci. Technol. B. 1999. V. 17. N 5. P. 2058
- Diefendorff K. Extreme Lithography (6/19/2000). <http://www.mpronline.com>
- Bakshi V. EUV Sources for Lithography. SPIE Press. Bellingham, WA, USA, 2006
- Калмыков С.Г. // Письма в ЖТФ. 2008. Т. 34. В. 17. С. 65
- Арцимович Л.А., Сагдеев Р.З. Физика плазмы для физиков. М., 1979
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.
