Магнитные свойства пленок Co на Si (100) от момента зарождения и до перехода к объемоподобному состоянию были исследованы методами ФМР на частоте 9.55 GHz и SQUID-магнетометрии. Ширина линии ФМР в зависимости от толщины пленки Сo характеризуется резким переходом от больших значений в интервале 0.24<Delta H<0.33 kOe на начальной стадии осаждения к мало изменяющимся значениям Delta H=< 0.16 kOe при толщине пленки Co более 1 nm. Аналогично, пленки Со толщиной до 1 nm обладают значительной коэрцитивной силой H_C>0.54 kOe при температуре 10 K, а слои большей толщины имеют H_C менее 0.15 kOe во всем интервале температур вплоть до 300 K. Большие значения Delta H и H_C на начальной стадии зарождения пленок объясняются вкладом от переходного слоя Co/Si, формирующегося при воздействии "автооблучения" высокоэнергетической составляющей из общего потока осаждаемых атомов Со, свойственной для процесса ионно-лучевого распыления в высоком вакууме, доля которых не превышает 10% от общего потока, для которых средняя длина пробега в растущем слое Co составляет 0.8 nm, а в Si - 1.2 nm. Обсуждаются условия использования пленок Co из переходного интервала значений толщин 0.8<t=< 2 nm для инжекции спин-поляризованного тока в Si при комнатной температуре. PACS: 75.70.Ak, 76.50+g, 85.25.Dq

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.