О возможности электронно-лучевой обработки диэлектриков плазменным источником электронов в форвакуумной области давлений
Бурдовицин В.А.1, Климов А.С.1, Окс Е.М.1
1Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники, Томск, Россия
Email: burdov@fet.tusur.ru
Поступила в редакцию: 22 января 2009 г.
Выставление онлайн: 20 мая 2009 г.
На основе измерений потенциала изолированной мишени при облучении ее электронным пучком, генерируемым плазменным источником электронов в форвакуумной области давлений 5-15 Pa, показано, что в этих условиях плазма, образующаяся в области транспортировки электронного пучка, обусловливает практически полную нейтрализацию зарядки изолированной мишени. Отмеченная особенность обеспечивает возможность непосредственной электронно-лучевой обработки непроводящих материалов, в том числе плавки и сварки керамических материалов. PACS: 52.40.Mj
- Окс Е.М. Источники электронов с плазменным катодом: физика, техника, применения. Томск: Изд-во НТЛ, 2005. 216 с. ( Oks E.M. Plasma Cathode Electron Sources Physics, Technology, Applications. WILEY-VCH, 2006, 172 p.)
- Бурачевский Ю.А., Бурдовицин В.А., Климов А.С., Окс Е.М., Федоров М.В. // ЖТФ. 2006. Т. 76. В. 10. С. 62--65
- Жирков И.С., Бурдовицин В.А., Окс Е.М. // ЖТФ. 2007. Т. 77. В. 9. С. 115--119
- Жирков И.С., Бурдовицин В.А., Окс Е.М., Осипов И.В. // ЖТФ. 2006. Т. 76. В. 6. С. 106--110
- Бурдовицин В.А., Бурачевский Ю.А., Окс Е.М., Федоров М.В. // ПТЭ. 2003. N 2. С. 127--129
- Мартенс В.Я. // ЖТФ. 1996. Т. 66. В. 6. С. 70--76
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.