Вышедшие номера
О возможности электронно-лучевой обработки диэлектриков плазменным источником электронов в форвакуумной области давлений
Бурдовицин В.А.1, Климов А.С.1, Окс Е.М.1
1Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники, Томск, Россия
Email: burdov@fet.tusur.ru
Поступила в редакцию: 22 января 2009 г.
Выставление онлайн: 20 мая 2009 г.

На основе измерений потенциала изолированной мишени при облучении ее электронным пучком, генерируемым плазменным источником электронов в форвакуумной области давлений 5-15 Pa, показано, что в этих условиях плазма, образующаяся в области транспортировки электронного пучка, обусловливает практически полную нейтрализацию зарядки изолированной мишени. Отмеченная особенность обеспечивает возможность непосредственной электронно-лучевой обработки непроводящих материалов, в том числе плавки и сварки керамических материалов. PACS: 52.40.Mj