"Письма в журнал технической физики"
Вышедшие номера
Эффект нормальной плотности тока в барьерном разряде
Малик Д.А.1, Орлов К.Е.1, Мирошников И.В.1, Смирнов А.С.1
1С.-Петербургский государственный политехнический университет
Email: orlov@phtf.stu.neva.ru
Поступила в редакцию: 24 февраля 2005 г.
Выставление онлайн: 20 мая 2005 г.

Исследована эволюция свечения однородного барьерного разряда в течение одного импульса тока. Экспериментально показано, что при горении барьерного разряда проявляется эффект, аналогичный эффекту "нормальной плотности тока" в разряде постоянного тока.
  1. Siemens W. // Poggendorff's Ann. Phys. Chem. 1857. V. 102. P. 66
  2. Kogelschatz U. // Plasma Chemistry and Plasma Processing. 2003. V. 23. N 1. P. 1
  3. Kogelschatz U. // IEEE Trans. Plasma. Sci. 2002. V. 30. N 4. P. 1400
  4. Pietsch G.J. // Contrib. Plasma Phys. 2001. V. 41. N 6. P. 620
  5. Massines F., Rabeli A., Decomps P. et al. // J. Appl. Phys. 1998. V. 83. N 6. P. 2950
  6. Zhiyu Chen // IEEE Trans. Plasma Sci. 2002. V. 30. N 5. P. 1922
  7. Tochikubo F., Chiba T., Watanabe T. // Jpn. J. Appl. Phys. 1999. V. 38. N 9A. P. 5244
  8. Gherardi N., Gouda G., Gat E., Ricard A., Massines F. // Plasma Sources Sci. Technol. 2000. V. 9. P. 340
  9. Gibalov V.I., Pietsch G.J. // J. Phys. D: Appl. Phys. 2000. V. 33. P. 2618
  10. Golubovskii Yu.B., Maiorov V.A., Behnke J., Behnke J.F. // J. Phys. D: Appl. Phys. 2002. V. 35. P. 751
  11. Mangolini L., Anderson C., Sittig K., Zhang P., Hur M., Heberlein J., Kortshagen U. // 16th International Symposium on Plasma Chemistry. Taormina, Italy, June 22--27, 2003
  12. Малик Д.А., Орлов К.Е., Смирнов А.С. // Письма в ЖТФ. 2004. Т. 30. В. 2. С. 44

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.