Вышедшие номера
Структурный и фазовый анализ поверхностей Ge(111)c(2x 8), Si(100)(2x 1) и BaO/Si(100) с помощью гистограмм высот в сканирующей туннельной микроскопии
Кузьмин М.В. 1, Мальков Д.А.1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Email: m.kuzmin@mail.ioffe.ru
Поступила в редакцию: 3 февраля 2025 г.
В окончательной редакции: 3 февраля 2025 г.
Принята к печати: 2 марта 2025 г.
Выставление онлайн: 19 мая 2025 г.

Показано, что с помощью количественного анализа распределения высот рельефа в сканирующей туннельной микроскопии можно получать данные не только о шероховатости, но и об атомном строении, морфологической структуре и фазовом составе исследуемых образцов. Приведены результаты такого анализа для хорошо известных модельных поверхностей Ge(111)c(2x 8) и Si(100)(2x 1), а также пленочной системы BaO/Si(100) при различных температурах. Ключевые слова: сканирующая туннельная микроскопия, морфология поверхности, гистограмма высот, атомная структура, фазовый состав.