Вышедшие номера
Home » Письма в журнал технической физики » Год 2023, выпуск 23 » Статья стр. 62
<<<>>>
Влияние предварительной химической обработки на эффективность пассивации текстурированных кремниевых пластин 
DOI: 10.61011/PJTF.2023.23.56856.198A
Поздеев В.А.1,2, Уваров А.В. 1, Гудовских А.С. 1,2, Вячеславова Е.А.1
1Санкт-Петербургский национальный исследовательский Академический университет имени Ж.И. Алфёрова Российской академии наук, Санкт-Петербург, Россия
2Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет "ЛЭТИ" им. В.И. Ульянова (Ленина), Санкт-Петербург, Россия
Email: pozdeev99va@gmail.com, lumenlight@mail.ru, gudovskikh@spbau.ru, cate.viacheslavova@yandex.ru
Поступила в редакцию: 19 мая 2023 г.
В окончательной редакции: 31 июля 2023 г.
Принята к печати: 30 октября 2023 г.
Выставление онлайн: 10 декабря 2023 г.
PDF версия
Исследовано влияние предварительной химической обработки поверхности методом RCA (Radio Corporation of America) и модифицированным методом Шираки на эффективное время жизни неравновесных носителей заряда перед пассивацией слоем аморфного гидрогенизированного кремния для кремниевых пластин, текстурированных с помощью различных методов травления, включая реактивное ионное травление с применением источника индуктивно-связанной плазмы и жидкостное травление. Показано преимущество модифицированного метода Шираки. Максимальное достигнутое значение эффективного времени жизни неравновесных носителей заряда для текстурированных реактивным ионным травлением с применением источника индуктивно-связанной плазмы пластин составило 400 μs, для пластин, текстурированных комбинированным жидкостным и ионным методом, - 500 μs. Ключевые слова: фотоэлектрические преобразователи, кремний, аморфный кремний, черный кремний, пассивация, реактивное ионное травление. DOI: 10.61011/PJTF.2023.23.56856.198A
  1. M. Otto, M. Algasinger, H. Branz, B. Gesemann, T. Gimpel, K. Fuchsel, T. Kasebier, S. Kontermann, S. Koynov, X. Li, V. Naumann, J. Oh, A.N. Sprafke, J. Ziegler, M. Zilk, R.B. Wehrspohn, Adv. Opt. Mater., 3 (2), 147 (2014). DOI: 10.1002/adom.201400395
  2. M. Kroll, T. Kasebier, M. Otto, R. Salzer, R.B. Wehrspohn, E.-B. Kley, A. Tunnermann, T. Pertsch, Proc. SPIE, 7725, 772505 (2010). DOI: 10.1117/12.854596
  3. M. Kroll, M. Otto, T. Kasebier, K. Fuchsel, R.B. Wehrspohn, E.-B. Kley, A. Tunnermann, T. Pertsch, Proc. SPIE, 8438, 843817 (2012). DOI: 10.1117/12.922380
  4. A. Richter, S.W. Glunz, F. Werner, J. Schmidt, A. Cuevas, Phys. Rev. B, 86 (16), 165202 (2012). DOI: 10.1103/physrevb.86.165202
  5. J. Wang, X. Ru, T. Ruan, Y. Hu, Y. Zhang, H. Yan, J. Mater. Sci.: Mater. Electron., 32 (20), 25327 (2021). DOI: 10.1007/s10854-021-06991-3
  6. E.A. Vyacheslavova, I.A. Morozov, D.A. Kudryashov, A.V. Uvarov, A.I. Baranov, A.A. Maksimova, S.N. Abolmasov, A.S. Gudovskikh, ACS Omega, 7 (7), 6053 (2022). DOI: 10.1021/acsomega.1c06435
  7. W. Kern, D.A. Puotinen, RCA Rev., 31, 187 (1970)
  8. А. Ishizaka, Y. Shiraki, Electrochem. Soc.,  133 (4), 666 (1986). DOI: 10.1149/1.2108651
  9. D. Pysch, C. Meinhardt, K.-U. Ritzau, M. Bivour, K. Zimmermann, C. Schetter, M. Hermle, S.W. Glunz, in 2010 35th IEEE Photovoltaic Specialists Conf. (IEEE, 2010), p. 003570. DOI: 10.1109/pvsc.2010.5614351
  10. H. Angermann, A. Laades, U. Sturzebecher, E. Conrad, C. Klimm, T.F. Schulze, K. Jacob, A. Lawerenz, L. Korte, Solid State Phenom., 187, 349 (2012). DOI: 10.4028/www.scientific.net/SSP.187.349

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.

Учредители

Издатель

© 2024 Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук
Powered by webapplicationthemes.com - High quality HTML Theme