Вышедшие номера
Особенности роста слоев в напряженных сверхрешетках InAs/GaSb
Левин Р.В.1, Неведомский В.Н. 1, Сокура Л.А. 1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Email: Lev@vpegroup.ioffe.ru, nevedom@mail.ioffe.ru, sokuraliliy@mail.ru
Поступила в редакцию: 20 июля 2021 г.
В окончательной редакции: 4 октября 2021 г.
Принята к печати: 18 октября 2021 г.
Выставление онлайн: 30 ноября 2021 г.

Представлены результаты исследования факторов, влияющих на толщину переходных слоев в напряженных сверхрешетках InAs/GaSb при их выращивании методом газофазной эпитаксии из металлоорганических соединений. Показано, что толщины интерфейсных слоев между InAs и GaSb практически не зависят от температуры роста. Регистрируемое влияние на толщину интерфейсных слоев оказывает направление переключения роста слоев. Наименьшая толщина 1.2-1.4 nm интерфейсного слоя была получена для направления переключения роста с GaSb на InAs. Ключевые слова: газофазная эпитаксия из металлоорганических соединений, напряженная сверхрешетка, InAs/GaSb, интерфейсный слой, просвечивающая электронная микроскопия.