Вышедшие номера
Вертикальное упорядочение аморфных нанокластеров Ge в многослойных гетероструктурах a-Ge/a-Si:H
The Ministry of Education and Science of the Russian Federation, The Basic Research Program of Rzhanov Institute of Semiconductor Physics
Камаев Г.Н. 1, Володин В.А. 1,2, Кривякин Г.К. 1,2
1Институт физики полупроводников им. А.В. Ржанова Сибирского отделения Российской академии наук, Новосибирск, Россия
2Новосибирский государственный университет, Новосибирск, Россия
Email: kamaev@isp.nsc.ru, volodin@isp.nsc.ru, krivyakin@isp.nsc.ru
Поступила в редакцию: 8 февраля 2021 г.
В окончательной редакции: 11 марта 2021 г.
Принята к печати: 17 марта 2021 г.
Выставление онлайн: 20 апреля 2021 г.

Исследована многослойная гетеронаноструктура, состоящая из трех пар слоев аморфного кремния и аморфного германия (a-Ge/a-Si:H), выращенная на подложке кремния методом низкочастотного плазмохимического осаждения при температуре 225oC. На основе анализа спектров комбинационного рассеяния света определен фазовый состав слоев кремния и германия, который показал, что слои полностью аморфны. На изображениях, полученных с помощью просвечивающей электронной микроскопии, наблюдаются упорядоченные в вертикальном направлении аморфные нанокластеры Ge, формирование которых инициировано локальными неоднородностями нанометрового масштаба в первом слое германия, латеральные размеры которых растут от нижнего слоя к верхнему. Ключевые слова: германий, кремний, гетерограница, самоорганизация, нанокластер.