Вышедшие номера
Home » Письма в журнал технической физики » Год 2021, выпуск 11 » Статья стр. 44
<<<>>>
Влияние металлических масок на согласование нижнего электрода с высокочастотным генератором смещения при реактивно-ионном травлении массивных подложек
DOI: 10.21883/PJTF.2021.11.51008.18717
ФНИЦ «Кристаллография и фотоника» РАН, госзадание, № 007-ГЗ/43363/26
НПО «Государственный институт прикладной оптики», договор о НИР, №08/2017
Полетаев С.Д.1,2, Любимов А.И.3
1Институт систем обработки изображений РАН, Самара, Россия
2Самарский национальный исследовательский университет им. академика С.П. Королева, Самара, Россия
3Государственный институт прикладной оптики, Казань, Россия
Email: sergpolet@gmail.com, las126@yandex.ru
Поступила в редакцию: 25 января 2021 г.
В окончательной редакции: 12 марта 2021 г.
Принята к печати: 12 марта 2021 г.
Выставление онлайн: 7 апреля 2021 г.
PDF версия
Теоретически и экспериментально исследовано влияние металлических масок на согласование нижнего электрода с высокочастотным генератором смещения при селективном реактивно-ионном травлении через маску массивных подложек во фреоне-14. Показано, что для масок с покрытием подложек выше 30% происходит рост реактивной составляющей мощности на расстояниях от центра, близких к радиусу подложки. Установлено отсутствие зависимости удельной реактивной мощности от толщины и типа металла масок. Экспериментально показано, что маски с любым практически значимым коэффициентом покрытия подложки, соединенные с нижним электродом через подложкодержатель, улучшают согласование, снижая коэффициент отражения по мощности. Ключевые слова: дифракционный микрорельеф, реактивно-ионное травление, импеданс, подложкодержатель, нижний электрод.
  1. А.В. Волков, Н.Л. Казанский, О.Е. Рыбаков, Компьютерная оптика, N 18, 130 (1998)
  2. M. Puttock, Surf. Coat. Technol., 97 (1-3), 10 (1997). https://doi.org/10.1016/S0257-8972(97)00281-8
  3. С.В. Михайлович, А.Ю. Павлов, К.Н. Томош, Ю.В. Федоров, Письма в ЖТФ, 44 (10), 61 (2018). DOI: 10.21883/PJTF.2018.10.46100.17227 [Пер. версия: 10.1134/S1063785018050218]
  4. R. Szweda, Technology Focus, 14 (1), 42 (2001). https://doi.org/10.1016/S0961-1290(01)89007-4
  5. N.L. Kazanskiy, G.V. Uspleniev, A.V. Volkov, Proc. of SPIE, 4316, 193 (2000). DOI: 10.1117/12.407678
  6. С.Д. Полетаев, А.И. Любимов, ЖТФ, 91 (4), 657 (2021). DOI: 10.21883/JTF.2021.04.50630.271-20
  7. D.W. Hess, Plasma Chem. Plasma Process., 2 (2), 141 (1982)
  8. A.P. Milenin, C. Jamois, R.B. Wehrspohn, M. Reiche, Microelectron. Eng., 77 (2), 139 (2005). https://doi.org/10.1016/j.mee.2004.10.001
  9. W.-T. Li, D.A.P. Bulla, R. Boswell, Surf. Coat. Technol., 201 (9-11), 4979 (2007). https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2006.07.083
  10. V.P. Veiko, A.G. Poleshchuk, in Fundamentals of laser-assisted micro- and nanotechnologies, eds V. Veiko, V. Konov, Springer Ser. in Materials Science (Springer, Cham, 2014), vol. 195, p. 149. DOI: 10.1007/978-3-319-05987-7\_7
  11. Е.В. Берлин, С.А. Двинин, Л.А. Сейдман, Вакуумная технология и оборудование для нанесения и травления тонких пленок (Техносфера, М., 2007)

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.

Учредители

Издатель

© 2024 Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук
Powered by webapplicationthemes.com - High quality HTML Theme