Вышедшие номера
Влияние кривизны поверхности на процессы физического распыления кремния ионами Ar низкой энергии
Переводная версия: 10.1134/S1063785020120135
Российский фонд фундаментальных исследований (РФФИ), 18-29-27001
Сычева А.А. 1
1Научно-исследовательский институт ядерной физики им. Д.В. Скобельцына Московского государственного университета им. М.В. Ломоносова, Москва, Россия
Email: sycheva.phys@gmail.com
Поступила в редакцию: 15 июня 2020 г.
В окончательной редакции: 18 августа 2020 г.
Принята к печати: 19 августа 2020 г.
Выставление онлайн: 30 сентября 2020 г.

Выполнено моделирование методом молекулярной динамики воздействия ионов Ar с энергией 200 eV на модели кремниевых наночастиц различного размера. На основании выполненных расчетов проанализированы механизмы физического распыления и продемонстрированы различия в процессе передачи энергии материалу мишени, которые определяются кривизной ее поверхности. Ключевые слова: физическое распыление, моделирование, молекулярная динамика, механизм, кривизна поверхности.