Вышедшие номера
Ионно-лучевое осаждение тонких пленок AlN на Al2O3
Переводная версия: 10.1134/S106378501912023X
Министерство образования и науки Российской Федерации, государственное задание ЮНЦ РАН на 2019 год, 01201354240
Министерство образования и науки Российской Федерации, государственное задание ЮНЦ РАН на 2019 год, АААА-А19-119040390081-2
Лунин Л.С.1,2, Девицкий О.В.1,3, Сысоев И.А.3, Пащенко А.С.1,2, Касьянов И.В.3, Никулин Д.А.3, Ирха В.А.1
1Федеральный исследовательский центр Южный научный центр РАН, Ростов-на-Дону, Россия
2Южно-Российский государственный политехнический университет (НПИ) им. М.И. Платова, Новочеркасск, Россия
3Северо-кавказский федеральный университет, Ставрополь, Россия
Email: lunin_ls@mail.ru
Поступила в редакцию: 31 июля 2019 г.
Выставление онлайн: 19 ноября 2019 г.

Методом ионно-лучевого осаждения на сапфировых подложках выращены тонкие пленки AlN. Методами сканирующей электронной микроскопии, комбинационного рассеяния и оптической спектроскопии выявлены зависимости влияния параметров ионно-лучевого осаждения (состав рабочей газовой смеси, энергия ионного пучка, температура подложки) на морфологию, структуру и оптические свойства тонких пленок AlN на сапфире. Ключевые слова: ионно-лучевое осаждение, широкозонные полупроводники, нитрид алюминия, нитрид галлия, сапфир.