Вышедшие номера
Изолирующие слои GaN, совместно легированные железом и углеродом
Переводная версия: 10.1134/S106378501907023X
Лундин В.В.1, Сахаров А.В.1, Заварин Е.Е.1, Закгейм Д.А.1, Лундина Е.Ю.1, Брунков П.Н.1, Цацульников А.Ф.2
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
2Научно-технологический центр микроэлектроники и субмикронных гетероструктур Российской академии наук, Санкт-Петербург, Россия
Email: lundin.vpegroup@mail.ioffe.ru
Поступила в редакцию: 20 февраля 2019 г.
Выставление онлайн: 19 июня 2019 г.

Исследованы морфология и электрические свойства полуизолирующих эпитаксиальных слоев GaN. Показано, что улучшение изолирующих свойств слоев при повышении уровня легирования углеродом или железом ограничено ухудшением морфологии, при этом характер развития морфологии различен для этих двух примесей. Установлено, что совместное легирование углеродом и железом позволяет сохранить планарность поверхности GaN при существенном улучшении изолирующих свойств. Ключевые слова: транзистор с высокой подвижностью электронов, полуизолирующий нитрид галлия, ток утечки, совместное легирование.