Письма в журнал технической физики
Авторам
Вышедшие номера
- 2025
- 2024
- 2023
- 2022
- 2021
- 2020
- 2019
- 2018
- 2017
- 2016
- 2015
- 2014
- 2013
- 2012
- 2011
- 2010
- 2009
- 2008
- 2007
- 2006
- 2005
- 2004
- 2003
- 2002
- 2001
- 2000
- 1999
- 1998
- 1997
- 1996
- 1995
- 1994
- 1993
- 1992
- 1991
- 1990
- 1989
- 1988
Новый метод подавления периферического поглощения в лазерно-плазменном источнике коротковолнового излучения с Xe газоструйной мишенью
Переводная версия: 10.1134/S1063785018120209 
Буторин П.С.1, Калмыков С.Г.2, Сасин М.Э.2
1Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого, Санкт-Петербург, Россия 
2Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
2Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Email: Serguei.Kalmykov@mail.ioffe.ru
Поступила в редакцию: 19 апреля 2018 г.
Выставление онлайн: 19 ноября 2018 г.
Экспериментально наблюдалось более чем десятикратное увеличение интенсивности EUV-излучения из лазерно-плазменного источника при освещении Xe газоструйной мишени широким лазерным лучом, охватывающим всю ее наиболее плотную часть, по сравнению с интенсивностью излучения при традиционной геометрии, когда луч остро сфокусирован на ось струи. В качестве объяснения предполагается, что в этом случае почти вся плотная часть струи под действием лазерного облучения нагревается, подвергается ионизации и становится прозрачной для квантов исследуемого излучения. Толщина же поглощающей периферической оболочки лазерной искры соответственно уменьшается, что приводит к увеличению интенсивности доходящего до наблюдателя излучения.
- Chkhalo N.I., Salashchenko N.N. // AIP Adv. 2013. V. 3. P. 082130
- Chkhalo N.I., Gusev S.A., Nechay A.N., Pariev D.E., Polkovnikov V.N., Salashchenko N.N., Schafers F., Sertsu M.G., Sokolov A., Svechnikov M.V., Tatarsky D.A. // Opt. Lett. 2017. V. 42. P. 5070--5073
- Stamm U., Gabel K. // EUV sources for lithography / Ed. V. Bakshi. Bel-lingham, WA, USA: SPIE Press, 2006. Ch. 19
- O'Sullivan G. // 2011 Int. Workshop on EUV lithography. Maui, Hawaii, 2011. P. P2; http://www.euvlitho.com/2011/P2.pdf
- Белик В.П., Калмыков С.Г., Можаров А.М., Петренко М.В., Сасин М.Э. // Письма в ЖТФ. 2017. Т. 43. В. 22. С. 10--17
- Буторин П.С., Задиранов Ю.М., Зуев С.Ю., Калмыков С.Г., Полковников В.Н., Сасин М.Э., Чхало Н.И. // ЖТФ. 2018. Т. 88. В. 10. С. 1554--1558
- Капралов В.Г., Корде Р., Левашов В.Е., Пирожков А.С., Рагозин Е.Н. // Квантовая электроника. 2002. Т. 32. N 2. С. 149--154
- Левашов В.Е., Медников К.Н., Пирожков А.С., Рагозин Е.Н. // Квантовая электроника. 2006. Т. 36. N 6. С. 549--552
- Bobashev S.V., Domracheva I.V., Petrenko M.V., Stepanova Z.A. // Proc. of SPIE. 2007. V. 6614. P. 66140D
- de Bruijn R., Koshelev K.N., Bijkerk F. // J. Phys. D: Appl. Phys. 2003. V. 36. P. L88--L91
- de Bruijn R., Koshelev K.N., Zakharov S.V., Novikov V.G., Bijkerk F. // Phys. Plasmas. 2005. V. 12. P. 042701
- Гарбарук А.В., Демидов Д.А., Калмыков С.Г., Сасин М.Э. // ЖТФ. 2011. Т. 81. В. 6. С. 20--29
- Garbaruk A.V., Gritskevich M.S., Kalmykov S.G., Mozharov A.M., Sasin M.E. // J. Phys. D: Appl. Phys. 2017. V. 50. P. 025201
- Забродский В.В., Белик В.П., Аруев П.Н., Бер Б.Я., Бобашев С.В., Петренко М.В., Суханов В.Л. // Письма в ЖТФ. 2012. Т. 38. В. 17. С. 69--77
- Chung H.-K., Chen M.H., Morgan W.L., Ralchenko Y., Lee R.W. // High Energy Density Phys. 2005. V. 1. P. 3--12
- Борисевичус Д.А., Забродский В.В., Калмыков С.Г., Сасин М.Э., Сейсян Р.П. // Письма в ЖТФ. 2017. Т. 43. В. 1. С. 53--60
- Методы исследования плазмы. Спектроскопия, лазеры, зонды / Под ред. В. Лохте-Хольтгревена. М.: Мир, 1971. С. 31
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.
