Вышедшие номера
Формирование тонкого люминесцирующего слоя в кристаллах LiF под действием излучения тлеющего разряда
Переводная версия: 10.1134/S1063785018080138
Федеральное агентство научных организаций (ФАНО), Программа фундаментальных научных исследований государственных академий наук на 2013-2020 годы, раздел II.10.1., № 0307-2016-0004
Минобрнауки РФ, Госзадание на проведение научных исследований (базовая часть), № 3.8401-2017/8.9
Тютрин А.А. 1, Глазунов Д.С. 1, Ракевич А.Л. 1, Мартынович Е.Ф. 1,2
1Иркутский филиал Института лазерной физики СО РАН, Иркутск, Россия
2Иркутский государственный университет, Иркутск, Россия
Email: filial@ilph.irk.ru
Поступила в редакцию: 6 декабря 2017 г.
Выставление онлайн: 20 июля 2018 г.

Средствами конфокальной сканирующей люминесцентной микроскопии с временным разрешением методом времякоррелированного счета одиночных фотонов исследовано образование тонких слоев люминесцирующих дефектов на гранях плоских образцов кристаллов фторида лития, размещенных в положительном столбе и темном фарадеевом пространстве тлеющего газового разряда. По характеристикам спектров и кинетики люминесценции, возникшей после облучения, установлено, что в поверхностных слоях кристаллов образуются агрегатные центры окраски. Рассмотрена роль электронов, ионов и фотонов газового разряда в механизме дефектообразования. Показано, что дефекты образуются под действием фотонов вакуумного ультрафиолета. Методом термостимулированной люминесценции измерено распределение интенсивности вакуумного ультрафиолетового излучения в разрядном промежутке. Основным источником этого излучения являются области анодного и катодного падения напряжения в тлеющем разряде.