Вышедшие номера
Влияние дозы имплантации ионов азота на концентрацию точечных дефектов, введенных в слои GaAs
Переводная версия: 10.1134/S1063785018070131
Соболев Н.А.1, Бер Б.Я.1, Казанцев Д.Ю.1, Калядин А.Е.1, Карабешкин К.В.1, Микушкин В.М.1, Сахаров В.И.1, Серенков И.Т.1, Шек Е.И.1, Шерстнев Е.В.1, Шмидт Н.М.1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Email: nick@sobolev.ioffe.rssi.ru
Поступила в редакцию: 29 ноября 2017 г.
Выставление онлайн: 19 июня 2018 г.

С помощью методов масс-спектрометрии вторичных ионов и резерфордовского обратного рассеяния протонов измерены профили концентрации атомов азота и исследована дефектная структура эпитаксиальных слоев GaAs, имплантированных ионами N+ с энергией 250 keV и дозами 5· 1014-5· 1016 cm-2. Установлено, что аморфизации имплантируемых слоев при дозах выше расчетного порога аморфизации не происходит, концентрация образовавшихся точечных дефектов значительно меньше расчетной, а характерной особенностью концентрационных профилей дефектов является их высокая концентрация в приповерхностном слое.