Вышедшие номера
Рентгеноструктурный анализ эпитаксиальных слоев со свойствами дислокационного фильтра
Переводная версия: 10.1134/S106378501807009X
Российский фонд фундаментальных исследований (РФФИ), мол_а_дк, 16-32-60087
Лошкарев И.Д.1, Василенко А.П.1, Труханов Е.М.1, Колесников А.В.1, Петрушков М.О.1, Путято М.А.1
1Институт физики полупроводников им. А.В. Ржанова Сибирского отделения Российской академии наук, Новосибирск, Россия
Email: idl@isp.nsc.ru
Поступила в редакцию: 18 декабря 2017 г.
Выставление онлайн: 19 июня 2018 г.

Продемонстрирован подход к экспресс-диагностике эпитаксиальных пленок с резким снижением плотности прорастающих дислокаций. Использован метод высокоразрешающей рентгеновской дифрактометрии, в частности картирование обратного пространства. Проведен структурный анализ гетеросистем GaAs/Si(001) с низкотемпературными слоями GaAs. Зарегистрировано снижение плотности прорастающих дислокаций в пленке GaAs с образованием малоугловой границы.