Вышедшие номера
Cолнечно-слепые AlxGa1-xN (x>0.45) p-i-n-фотодиоды с поляризационно-легированным p-эмиттером
Кузнецова Н.В.1, Нечаев Д.В.1, Шмидт Н.М.1, Карпов С.Ю.2, Ржеуцкий Н.В.3, Земляков В.Е.4, Кайбышев В.Х.1, Казанцев Д.Ю.1, Трошков С.И.1, Егоркин В.И.4, Бер Б.Я.1, Луценко Е.В.3, Иванов С.В.1, Жмерик В.Н.1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
2OOO "Софт-Импакт", Санкт-Петербург, Россия
3Институт физики им. Б.И. Степанова Национальной академии наук Беларуси, Минск, Беларусь
4Национальный исследовательский университет "Московский институт электронной техники", Москва, Зеленоград, Россия
Email: kuznetsova@beam.ioffe.ru
Поступила в редакцию: 8 февраля 2016 г.
Выставление онлайн: 20 мая 2016 г.

Исследовано поляризационное p-легирование слоев AlGaN с высоким содержанием Al во время их роста плазменно-активированной молекулярно-пучковой эпитаксией. Продемонстрирована необходимость задания градиента молярной доли AlN в AlGaN на уровне 0.005 nm-1 (градиент состава) для достижения дырочной концентрации на уровне ~ 1018 cm-3 (измеренной C-V-методом) в слоях AlxGa1-xN:Mg (x=0.52-0.32) c концентрацией примеси [Mg]=1.3· 1018 cm-3. Применение таких слоев в качестве p-эмиттеров в p-i-n-фотодиодах на основе гетероструктур AlGaN позволило получить максимальные значения фоточувствительности в солнечно-слепом диапазоне (lambda=281 nm) 35 (48) mA/W при обратных смещениях U=0 (-5) V и плотность темнового тока 3.9· 10-8 A/cm2 при -5 V.