Вышедшие номера
Модель формирования осевых гетероструктур в III-V нитевидных нанокристаллах
Дубровский В.Г.1
1Санкт-Петербургский Академический университет Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург Санкт-Петербургский национальный исследовательский университет информационных технологий, механики и оптики
Email: Dubrovskii@mail.ioffe.ru
Поступила в редакцию: 11 ноября 2015 г.
Выставление онлайн: 18 февраля 2016 г.

Предложена кинетическая модель формирования осевых гетероструктур в нитевидных нанокристаллах полупроводниковых соединений III-V, выращиваемых по механизму "пар-жидкость-кристалл". Сформулирована общая система нестационарных уравнений для эффективных потоков двух элементов одной группы (например, группы III), позволяющая рассчитывать профиль состава гетероструктуры в зависимости от координаты и условий эпитаксиального роста, в том числе от потока группы V. В линейном приближении найдены времена релаксации состава, определяющие резкость гетерограницы. Остановка потоков при переключении элементов на время, превосходящее данные времена релаксации, должна приводить к увеличению резкости гетерограницы. Проведены расчеты профиля состава в двойной гетероструктуре GaAs/InAs/GaAs в зависимости от радиуса нитевидного нанокристалла.