Вышедшие номера
Сверхрешетки InAs/GaSb, изготовленные методом МОС-гидридной эпитаксии
Левин Р.В.1,2, Неведомский В.Н.1,2, Пушный Б.В.1,2, Берт Н.А.1,2, Мизеров М.Н.1,2
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
2Научно-технологический центр микроэлектроники и субмикронных гетероструктур Российской академии наук, Санкт-Петербург, Россия
Email: Lev@vpegroup.ioffe.ru; pushnyi@vpegroup.ioffe.ru
Поступила в редакцию: 14 августа 2015 г.
Выставление онлайн: 20 декабря 2015 г.

Экспериментально показана возможность изготовления сверхрешеток на основе InAs/GaSb с напряженными слоями методом газофазной эпитаксии из металлорганических соединений. Исследования изготовленной структуры методами просвечивающей микроскопии и фотолюминесценции показали, что получена сверхрешетка InAs-GaSb на подложке GaSb с толщинами слоев InAs 2 nm и GaSb 3.3 nm.