Вышедшие номера
Особенности дефектообразования на деформируемой (111) поверхности кремния
Бетехтин В.И.1, Горобей Н.Н.1, Корсуков В.Е.1, Лукьяненко А.С.1, Обидов Б.А.1, Томилин А.Н.1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Email: Vladimir.Betekhtin@pop.ioffe.rssi.ru
Поступила в редакцию: 22 мая 2002 г.
Выставление онлайн: 20 октября 2002 г.

Методом сканирующей туннельной микроскопии изучается динамика рельефа грани Si (111), подвергаемой двухосному латеральному растяжению в двух случаях - после механической и химической полировки исходной поверхности. В обоих случаях, при некоторых различиях, общим является наличие динамики рельефа на нанометровом уровне и фрактальный характер пространственной структуры рельефа на поздних стадиях динамики.