Вышедшие номера
Эпитаксиальное выращивание проводящих слоев CdF2 : Er
Кавеев А.К.1, Моисеева М.М.1, Соколов Н.С.1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Email: andrew@fl.ioffe.rssi.ru
Поступила в редакцию: 25 октября 2001 г.
Выставление онлайн: 17 февраля 2002 г.

-1 Методом молекулярно-лучевой эпитаксии выращены гетероструктуры CdF2:Er/CaF2/CaF2 (111). Впервые для данных материалов легирование эрбием, сублимированным из металла, осуществлялось из эффузионной ячейки непосредственно в процессе роста. Разработан метод предэпитаксиальной подготовки подложек CaF2. Измерения продольной проводимости вышеуказанных структур по двухзондовой методике показали, что в зависимости от использованной концентрации легирующей примеси эрбия диапазон удельных сопротивлений этих структур лежит в пределах от 2.5· 105 до 50 Omega· cm.