Вышедшие номера
Home » Письма в журнал технической физики » Год 2002, выпуск 4 » Статья стр. 1
>>>
Контактная стабильность молекул C60 на чистой и легированной поверхности (100) вольфрама
Галль Н.Р.1, Рутьков Е.В.1, Тонтегоде А.Я.1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Email: gall@ms.ioffe.rssi.ru
Поступила в редакцию: 25 сентября 2001 г.
Выставление онлайн: 20 января 2002 г.
PDF версия
Впервые обнаружено влияние легирования поверхности металла на контактную стабильность адсорбированных молекул фуллеренов при комнатной температуре. Молекулы C60 при комнатной температуре разлагаются на чистой поверхности (100) вольфрама и на поверхности вольфрама, содержащей поверхностный карбид состава WC, однако поверхностный силицид той же стехиометрии (WSi) пассивирует поверхность, предохраняя молекулы фуллеренов от разложения.
  1. Katz E.A. Abstract of IWFAC-2001. СПб. Изд. ФТИ им. А.Ф. Иоффе РАН, 2001. P. 18
  2. Rut'kov E.V., Tontegode A.Ya., Usufov M.M. // Fullerene Science and technology. 1998. V. 6. N 4. P. 721--727
  3. Gall N.R., Mikhailov S.N., Rut'kov E.V., Tontegode A.Ya. // Surface Science. 1987. V. 191. P. 185--202
  4. Gall N.R., Rut'kov E.V., Tontegode A.Ya, Kuznetsov P.B., Gall R.N. // Journal of Chemical Vapor Deposition. 1997. V. 6. N 7. P. 72--75
  5. Агеев В.Н., Афанасьева Е.Ю., Галль Н.Р., Михайлов С.Н., Рутьков Е.В., Тонтегоде А.Я. // Поверхность. 1987. N 5. С. 7--14
  6. Gall N.R., Rut'kov E.V., Tontegode A.Ya. // International Journal of Modern Phys. B. 1997. V. 11. N 16. P. 1865--1911
  7. Галль Н.Р., Рутьков Е.В., Тонтегоде А.Я. // Изв. РАН. Сер. Физ. 1998. Т. 62. N 10. С. 1980--1983
  8. Kelly D.G., Salmeron M., Somorjai G.A. // Surf. Sci. 1986. V. 175. N 3. P. 465--486

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.

Учредители

Издатель

© 2024 Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук
Powered by webapplicationthemes.com - High quality HTML Theme