Кинетика роста алмазоподобных пленок в плазме микроволнового газового разряда
Суздальцев С.Ю.1, Яфаров Р.К.1
1Институт радиотехники и электроники РАН (Саратовское отделение)
Поступила в редакцию: 28 февраля 2001 г.
Выставление онлайн: 20 июля 2001 г.
Приведены характеристики самопроизвольного изменения микроструктуры и свойств углеродных пленок в процессе их осаждения в плазме микроволнового газового разряда. Показано влияние тока ионной компоненты плазмы газового разряда на селективный рост пленок алмазной фазы с толщиной большей, чем при осаждении пиролитическим методом.
- Былинкина Н.Н., Муштакова С.П., Олейник В.А. и др. // Письма в ЖТФ. 1996. Т. 22. В. 6. С. 43--47
- Уббелоде А.Р., Льюис Ф.А. Графит и его кристаллические соединения. М.: Мир, 1965. С. 185
- Таиров Ю.М., Цветков В.Ф. Технология полупроводниковых и диэлектрических материалов. М.: Высш. школа, 1990. 424 с
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.
© 2024 Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук