Влияние температуры на электронное состояние адсорбированных пленок Eu, нанесенных на поверхность вольфрама и кремния
Кузьмин М.В.1, Митцев М.А.1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Поступила в редакцию: 9 ноября 2000 г.
Выставление онлайн: 19 апреля 2001 г.
Исследованы температурные зависимости работы выхода varphi чистых поверхностей вольфрама (текстурированные ленты с преимущественным выходом на поверхность грани (100)) и кремния Si (111), а также температурные зависимости работы выхода этих же поверхностей, покрытых адсорбированными пленками европия. Показано, что обратимые изменения величины varphi могут быть значительными и что они являются отражением атомных и электронных процессов, происходящих на поверхности при изменении температуры.
- Городецкий Д.А., Мельник Ю.П. // Изв. АН СССР. Сер. Физ. 1971. Т. 35. N 5. С. 1064--1069
- Kramer H.M., Bauer E. // Surf. Sci. 1980. V. 92. N 1. P. 53--70
- Kolaczkiewicz J., Bauer E. // Surf. Sci. 1985. V. 160. N 1. P. 1--11
- Голубев О.Л., Судакова Т.И., Шредник В.Н. // ЖТФ. 2000. Т. 70. Вып. 12. С. 67--72
- Конторович Е.Л., Судакова Т.И., Шредник В.Н. // Письма в ЖТФ. 1999. Т. 25. В. 10. С. 69--73
- Крачино Т.В., Кузьмин М.В., Логинов М.В., Митцев М.А. // ФТТ. 2000. Т. 42. N 3. С. 553--563
- Backmann R. // Phys. Kondens. Materie. 1968. V. 8. P. 31
- Monch W. Semiconductor surfaces and interfaces. // Springer-Verlag Series in Surface Science. V. 22. Berlin-Heidelberg, 1993. 366 p
- Davydov S.Yu. // Surf. Sci. 1996. V. 364. P. 477--480
- Логинов М.В., Митцев М.А. // ФТТ. 1980. Т. 22. N 6. С. 1701--1706
- Шифф Л. Квантовая механика. Пер. с англ. М.: ИЛ, 1959. 423 с
- Вудраф Д., Делчар Т. // Современные методы исследования поверхности. М.: Мир, 1989. 568 с
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.