Вышедшие номера
In situ формирование нанодоменов InGaAs на поверхности (Al, Ga)As
Крестников И.Л.1, Черкашин Н.А.1, Сизов Д.С.1, Бедарев Д.А.1, Кочнев И.В.1, Лантратов В.М.1, Леденцов Н.Н.1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Email: igov@beam.ioffe.vssi.ru
Поступила в редакцию: 30 октября 2000 г.
Выставление онлайн: 17 февраля 2001 г.

Предложен новый способ получения InGaAs нанодоменов на GaAs или (Al,Ga)As. В процессе газофазной эпитаксии из металлоорганических соединений на поверхности подложки осаждается слой толщиной выше критической для образования дислокаций. InGaAs покрывается тонким AlAs, и осуществляется отжиг при повышенной температуре. В результате "отталкивания" AlAs от пластически-релаксированных областей вблизи дислокаций и его высокой температурной стабильности испарению подвергаются только области, содержащие дефекты. Эффекты самоорганизации стимулируют образование упорядоченного массива когерентных нанодоменов, которые могут быть использованы для получения захороненных низкоразмерных наноструктур и (или) наногетероэпитаксии.