Вышедшие номера
Home » Письма в журнал технической физики » Год 1999, выпуск 24 » Статья стр. 55
<<<>>>
Влияние диффузии дефектов на радиационную стойкость гетерогенного фотопроводника CdS--PbS
Бухаров В.Э.1, Роках А.Г.1
1Саратовский национальный исследовательский государственный университет им. Н.Г. Чернышевского, Саратов, Россия
Поступила в редакцию: 16 февраля 1999 г.
Выставление онлайн: 19 ноября 1999 г.
PDF версия
Показано, что известный факт значительного увеличения радиационной стойкости CdS при добавлении к нему PbS [1], сопровождаемом образованием гетерогенного фотопроводника CdS-PbS, может быть объяснен геттерированием радиационных дефектов включениями узкозонной фазы. Это геттерирование возникает из-за значительно более выраженной стимуляции диффузии радиационным воздействием в широкозонной компоненте CdS-PbS по сравнению с узкозонной. Предлагается модель, объясняющая радиационную стойкость системы CdS-PbS, и на ее основе определяется профиль стационарных концентраций дефектов.
  1. Роках А.Г., Елагина Е.В., Матасова Л.П., Новикова Н.А. Состав для изготовления пленочных фоторезисторов. А.с. СССР N 1110351. Заявл. 17. 03.83
  2. Мак В.Т. // ФТП. 1997. Т. 31. С. 292--295
  3. Давидюк Г.Е., Богданюк Н.С., Шаварова А.П., Федонюк А.А. // ФТП. 1997. Т. 31. С. 1013--1016
  4. Роках А.Г. // Письма в ЖТФ. 1984. Т. 10. С. 820--823
  5. Степанов В.А. // ЖТФ. 1998. Т. 68. С. 67--72
  6. Винецкий В.Л., Чайка Г.Е. // ФТТ. 1982. Т. 24. С. 2170--2176
  7. Мак В.Т. // ЖТФ. 1993. Т. 63. С. 173--176
  8. Болтакс Б.И. Диффузия и точечные дефекты в полупроводниках. Л.: Наука, 1972. 384 с
  9. Холстед Р.Е. // Физика и химия соединений AIIBVI. Пер. с англ. под ред. С.А. Медведева. М.: Мир, 1970. С. 296--333
  10. Климов Б.Н., Цукерман Н.М. Гетеропереходы в полупроводниках. Саратов: Изд-во Сарат. ун-та, 1976. 180 с
  11. Винецкий В.Л., Холодарь Г.А. Статистическое взаимодействие электронов и дефектов в полупроводниках. Киев: Наукова думка, 1969. 188 с
  12. Роуз А. Основы теории фотопроводимости. М.: Мир, 1966. 192 с
  13. Вавилов В.С., Кив А.Е., Ниязов О.Р. Механизмы образования и миграции дефектов в полупроводниках. М.: Наука, 1981. 384 с

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.

Учредители

Издатель

© 2024 Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук
Powered by webapplicationthemes.com - High quality HTML Theme