"Письма в журнал технической физики"
Вышедшие номера
Глубокое диффузионное легирование макропористого кремния
Астрова Е.В.1, Воронков В.Б.1, Грехов И.В.1, Нащекин А.В.1, Ткаченко А.Г.1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Поступила в редакцию: 16 июля 1999 г.
Выставление онлайн: 19 ноября 1999 г.

Исследована диффузия примесей бора и фосфора в макропористый кремний с регулярной структурой глубоких цилиндрических пор, при которой обеспечивается сквозное легирование стенок. Полученные слои толщиной ~ 150 mum были квазиоднородно легированы и имели плоский фронт диффузии, а их электрические параметры мало отличались от параметров легированного монокристалла. Продемонстрирована возможность применения глубокой диффузии фосфора для изготовления n-n+-структур.
  1. Lehman V., Foll H. // J. Electrochem. Soc. 1990. V. 137. P. 653
  2. Lehmann V. // J. Electrochem. Soc. 1993. V. 140. P. 2836
  3. Lehmann V. // Thin Solid Films. 1995. V. 255. P. 1
  4. Lehmann V., Gruning // Thin Solid Films. 1997. V.297. P. 13
  5. Gruning U., Lehmann V., Ottow S., Bush K. // Appl. Phys. Lett. 1996. V. 68. P. 747
  6. Gruning U., Lehmann V., Ottow S., Bush K. // Thin Solid Films. 1996. V. 276. P. 151
  7. Birner A., Gruning U., Ottow S., Schneider S., Muller F., Lehmann V., Foll H., Gosele U. // Phys. Stat. Solidi A. 1998. V. 165 (1). P. 111
  8. Aristov V.V., Starkov V.V., Shabel'nikov, Kusnetsov S.M., Ushakov A.P., Grigoriev V.V., Tseitlin V.M. Opt. Commun. 1999. V. 161. P. 203
  9. Rossi A.M., Amato G., Boarino L., Novero C. E-MRS Spring Meeting. Book of Abstracts, 1999, Strasbourg, abstract I--I. 11
  10. Lehmann V., Honlein W., Reisinger H., Spitzer A., Wendt H., Willer Y. // Thin Solid Films. 1997. V. 297. P. 321
  11. Amato G., Boarino L., Brunetto N., Turnaturi M. // Thin Solid Films. 1997. V. 297. P. 321
  12. Зи С.М. Физика полупроводниковых приборов. М., Энергия, 1973. 656 с

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.