Вышедшие номера
Гетероструктуры GaAsN/GaAs и InGaAsN/GaAs, выращенные методом молекулярно-пучковой эпитаксии
Егоров А.Ю.1, Жуков А.Е.1, Ковш А.Р.1, Устинов В.М.1, Мамутин В.В.1, Иванов С.В.1, Жмерик В.Н.1, Цацульников А.Ф.1, Бедарев Д.А.1, Копьев П.С.1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Поступила в редакцию: 2 июля 1998 г.
Выставление онлайн: 19 ноября 1998 г.

Методом молекулярно-пучковой эпитаксии получены гетероструктуры GaAsN/GaAs и InGaAsN/GaAs и исследовано влияние режимов выращивания на их характеристики. Показано, что внедрение азота приводит к существенному длинноволновому сдвигу излучения. На основе квантовых ям In0.28Ga0.72As0.97N0.03/GaAs продемонстрирована возможноcть получения излучения с длиной волны 1.4 mum при комнатной температуре.