Вышедшие номера
Получение GaN молекулярно-пучковой эпитаксией с активацией азота ВЧ-емкостным магнетронным разрядом
Мамутин В.В.1, Жмерик В.Н.1, Шубина Т.В.1, Торопов А.А.1, Лебедев А.В.1, Векшин В.А.1, Иванов С.В.1, Копьев П.С.1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Поступила в редакцию: 29 января 1998 г.
Выставление онлайн: 20 мая 1998 г.

Показана возможность получения слоев GaN методом молекулярно-пучковой эпитаксии с плазменной активацией азота высокочастотным магнетронным разрядом в оригинальном коаксиальном источнике с емкостной связью. На подложках GaAs и сапфира получена скорость роста ~0.1 mum/h, и определены пути оптимизации конструкции плазменного источника для увеличения скорости роста. Исследованы электрофизические и люминесцентные свойства нелегированных эпитаксиальных слоев вплоть до комнатной температуры.