Влияние толщины подложки на плазменный резонанс в полупроводниковой гетероструктуре с двумерным электронным газом
Попов В.В.1, Цымбалов Г.М.1
1Институт радиотехники и электроники РАН (Саратовский филиал)
Поступила в редакцию: 21 ноября 1997 г.
Выставление онлайн: 19 апреля 1998 г.
В рамках строгого электродинамического подхода получено решение задачи о возбуждении колебаний двумерной электронной плазмы в полупроводниковой гетероструктуре с решеточным элементом связи внешней плоской электромагнитной волной. Проведено исследование влияния толщины подложки на величину резонанса и на форму резонансной кривой.
- Batke E., Heitmann P., Tu C.W. // Phys. Rev. 1986. V. 34. N 10. P. 6951--6960
- Heitmann P. // Surface Sci. 1986. V. 170. N 1--2. P. 332--345
- Матов О.Р., Полищук О.В., Попов В.В. // Письма в ЖТФ. 1992. Т. 18. В. 16. С. 86--89
- Матов О.Р., Полищук О.В., Попов В.В. // Письма в ЖТФ. 1993. Т. 19. В. 17. С. 37--39
- Матов О.Р., Полищук О.В., Попов В.В. // Радиотехника и электроника. 1992. Т. 37. В. 12. С. 2242--2250
- Matov O.R., Polischuk O.V., Popov V.V. // Int. J. Infrared and Millimeter Waves. 1993. V. 14. N 7. P. 1455--1470
- Фальковский О.И. Техническая электродинамика. М.: Связь, 1978. 432 с
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.
© 2024 Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук