Вышедшие номера
Пассивация поверхности GaP(111) обработкой в парах селена
Безрядин Н.Н.1, Котов Г.И.1, Арсентьев И.Н.1, Кузубов С.В.1, Власов Ю.Н.1, Панин Г.А.1, Кортунов А.В.1
1Воронежский государственный университет инженерных технологий Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург Воронежский институт ГПС МЧС России
Email: phys@vsuet.ru
Поступила в редакцию: 13 августа 2013 г.
Выставление онлайн: 20 января 2014 г.

Представлены результаты исследования структурно-фазовых превращений на поверхности GaP(111) после термической обработки в парах селена в камере квазизамкнутого объема в вакууме. Электрофизические характеристики диодов с барьером Шоттки на GaP(111) исследовали до и после обработки в парах селена путем измерения вольт-амперных характеристик и методом нестационарной спектроскопии глубоких уровней. Установлено, что после обработки в парах селена появляется зависимость высоты барьера Шоттки от работы выхода металла в соответствии с правилом Шоттки-Мотта для идеального диода. Показано, что снижение плотности поверхностных электронных состояний в GaP(111) обусловлено образованием поверхностной фазы Ga2Se3(111)( 3x3)-R30o с упорядоченными стехиометрическими вакансиями галлия.