Энергетическая оптимизация распылительных систем на базе комбинированного ВЧ индукционно-емкостного разряда
Дудин С.В.1, Зыков А.В.1, Положий К.И.1
1Харьковский государственный университет
Поступила в редакцию: 13 июня 1996 г.
Выставление онлайн: 19 сентября 1996 г.
- Габович М.Д. Физика и техника плазменных источников ионов. М.: Атомиздат, 1972
- Плазменная технология в производстве СБИС / Под ред. Н. Айнспрука и Д. Брауна. М.: Мир, 1987
- Будянский А.М., Зыков А.В., Фареник В.И. Высокочастотный источник ионов Патент Украины N 2426. Патент РФ N 1570549 от 28.06.93
- Asmussen Jes J. Vac. Sci. Technol. 1989. A7(3). P. 883
- Райзер Ю.П., Шнейдер М.Н. Физика плазмы. 1992. Т. 18. В. 9. С. 1211
- Hopwood J.A. Plasma Sources Sci. Technol. 1992. V. 1. P. 109
- Turner M.M. Phys. Rev. Lett. 1993. V. 71. P. 1844
- Lieberman M.A. J. Appl. Phys. 1986. V. 65. P. 4186
- Будянский А.М. Письма в ЖТФ. 1992. Т. 18. В. 1. С. 17
- Ogle J.S. US Patent 4948458. 1990
- Coultas D.K., Keller J.H. European Patent. Publication N 0379828 A2. 1990
- Распыление твердых тел ионной бомбардировкой: Физическое распыление одноэлементных твердых тел / Под ред. Р. Бериша. М.: Мир, 1984. 336 с
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.
© 2024 Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук