"Письма в журнал технической физики"
Издателям
Вышедшие номера
Энергетическая оптимизация распылительных систем на базе комбинированного ВЧ индукционно-емкостного разряда
Дудин С.В.1, Зыков А.В.1, Положий К.И.1
1Харьковский государственный университет
Поступила в редакцию: 13 июня 1996 г.
Выставление онлайн: 19 сентября 1996 г.

  1. Габович М.Д. Физика и техника плазменных источников ионов. М.: Атомиздат, 1972
  2. Плазменная технология в производстве СБИС / Под ред. Н. Айнспрука и Д. Брауна. М.: Мир, 1987
  3. Будянский А.М., Зыков А.В., Фареник В.И. Высокочастотный источник ионов Патент Украины N 2426. Патент РФ N 1570549 от 28.06.93
  4. Asmussen Jes J. Vac. Sci. Technol. 1989. A7(3). P. 883
  5. Райзер Ю.П., Шнейдер М.Н. Физика плазмы. 1992. Т. 18. В. 9. С. 1211
  6. Hopwood J.A. Plasma Sources Sci. Technol. 1992. V. 1. P. 109
  7. Turner M.M. Phys. Rev. Lett. 1993. V. 71. P. 1844
  8. Lieberman M.A. J. Appl. Phys. 1986. V. 65. P. 4186
  9. Будянский А.М. Письма в ЖТФ. 1992. Т. 18. В. 1. С. 17
  10. Ogle J.S. US Patent 4948458. 1990
  11. Coultas D.K., Keller J.H. European Patent. Publication N 0379828 A2. 1990
  12. Распыление твердых тел ионной бомбардировкой: Физическое распыление одноэлементных твердых тел / Под ред. Р. Бериша. М.: Мир, 1984. 336 с

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.