"Письма в журнал технической физики"
Издателям
Вышедшие номера
Поведение постоянного потенциала плазмы в ВЧ разряде низкого давления
Лисовский В.А.1, Красников О.В.1
1Научный физико-технологический центр Харьковский государственный университет Харьков
Поступила в редакцию: 14 августа 1994 г.
Выставление онлайн: 20 октября 1995 г.

  1. Flamm D.L., Donneley V.M., Ibbotson D.E. J. Vac. Sci. Technol. 1983. V. B1. P. 23
  2. Coburn J. Plasma Chem. Plasma Process. 1982. V. 2. P. 1
  3. Яценко Н.А. Инж.-физ. журн. 1992. Т. 62. С. 739
  4. Левитский С.М. ЖТФ. 1957. Т. 27. С. 970, 1001
  5. Sabadil H., Klagge S., Kammeyer M. Plasma Chem. Plasma Process. 1988. V. 8. P. 425
  6. Kaneda T., Kubota T., Ohuchi M., Jen-Shis Chang. J. Phys. D. 1990. V. 23. P. 1642
  7. Кузовников А.А., Савинов В.П. Вестн. МГУ. Сер. 3. Физика, астрономия. 1973. N 2. С. 215
  8. Яценко Н.А. ЖТФ. 1981. Т. 51. С. 1195
  9. Райзер Ю.П. Физика газового разряда. М.: Наука, 1987. 592 с
  10. Block L.P. Astrophysics and Space Science. 1978. V. 55. P. 59
  11. Лисовский В.А., Егоренков В.Д., Красников О.В. Письма в ЖТФ. 1993. Т. 19. В. 21. С. 90
  12. Johnson J.C., D'Angelo N., Merlino R.L. J. Phys. D. 1990. V. 23. P. 682
  13. Smith D., Goodall C.V., Adams N.G., Dean A.G. J. Phys. B. 1970. V. 3. P. 34
  14. Kaganovich I.D., Tsendin L.D. IEEE Trans. Plasma Sci. 1992. V. 20. P. 66
  15. Selwyn G.S., Singh J., Bennett R.S. J. Vac. Sci. Technol. 1989. V. A7. P. 2758
  16. Selwyn G.S., Heidenreich J.E., Haller K.L. Appl. Phys. Lett. 1990. V. 57. P. 1876

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.