Вышедшие номера
Формирование нанокристаллов кремния в пленке SiNx на лавсане с применением фемтосекундных импульсных обработок
Корчагина Т.Т.1, Володин В.А.1, Попов А.А.1, Хорьков К.С.1, Герке М.Н.1
1Институт физики полупроводников им. А.В. Ржанова Сибирского отделения Российской академии наук, Новосибирск, Россия
Email: Taisiya999@mail.ru
Поступила в редакцию: 5 марта 2011 г.
Выставление онлайн: 19 июня 2011 г.

Исследовано формирование нанокластеров Si в пленке SiNx с избыточным содержанием кремния под воздействием фемтосекундных лазерных импульсов. Пленка была выращена при температуре 100oC с применением плазмо-химического осаждения на подложке из лавсана. Для импульсной кристаллизации использовался титан-сапфировый лазер с длиной волны излучения 800 nm и длительностью импульса 50 fs. По данным комбинационного рассеяния света получено, что импульсные отжиги стимулировали собирание избыточного кремния в нанокластеры и их кристаллизацию. Развитый подход может быть использован для формирования полупроводниковых нанокристаллов в диэлектрических пленках на подложках из пластика.