Вышедшие номера
Высокотемпературные динисторы на основе фосфида галлия
Жиляев Ю.В.1, Панютин Е.А.1, Федоров Л.М.1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Email: Eugeny.Panyutin@pop.ioffe.rssi.ru
Поступила в редакцию: 31 марта 2009 г.
Выставление онлайн: 20 августа 2009 г.

Изложены элементы технологии и приведены основные характеристики фосфид-галлиевых динисторов, полученных методом газофазной эпитаксии в хлоридной системе и предназначенных для работы в высокотемпературной (до 400oC) среде. Характерная особенность исходной эпитаксиальной n-p-n-p-структуры - использование бинарного цинк-магниевого легирования p-эмиттерного слоя, что по сравнению с традиционным акцептором (магнием) привело к улучшению параметров переключения прибора - снижения остаточного напряжения при сохранении приемлемого уровня обратного тока. Наблюдаемая оптимизация ВАХ связывается с различиями в механизмах диффузии цинка и магния в решетке GaP, что при определенных условиях может приводить к демпфированию влияния присутствующих в слоях структурных дефектов. PACS: 81.15.Kk, 85.40.Ry, 85.30.Rs