Вышедшие номера
Home » Письма в журнал технической физики » Год 2009, выпуск 15 » Статья стр. 57
<<<>>>
Низкотемпературное азотирование титана в плазме низкоэнергетического электронного пучка
Гаврилов Н.В.1, Мамаев А.С.1
1Институт электрофизики Уральского отделения РАН, Екатеринбург, Россия
Email: asm@iep.uran.ru
Поступила в редакцию: 12 марта 2009 г.
Выставление онлайн: 20 июля 2009 г.
PDF версия
Исследовано воздействие электронного пучка и создаваемой им плазмы на структурно-фазовое состояние и микротвердость поверхности титана. Широкий диапазон регулировки тока пучка (0.1-2.5 A), энергии электронов (0.1-1 keV) и давления газа (0.01-1 Pa) был обеспечен использованием сеточной стабилизации эмиссионных свойств плазменного источника электронов и формированием широкого пучка (40 cm2) в слое пространственного заряда между пучковой плазмой и сеткой плазменного катода. Температура образцов (350-900oC) задавалась параметрами электронного пучка, плотность плазмы дополнительно регулировалась изменением давления азота или смеси (N2+Ar). Показано, что при низкотемпературном азотировании ионное распыление оказывает существенное влияние на величину микротвердости поверхности и скорость роста упрочненного слоя. Возможность азотирования при низком (-50 V) или плавающем потенциале образцов позволила избежать развития рельефа поверхности и проводить обработку в глубоких и узких пазах. PACS: 52.50.-b, 52.59.-f, 52.77.-j
  1. Zhecheva A., Sha W., Malinov S., Long A. // Surface and Coatings Technology. 2005. V. 200. P. 2192
  2. Meletis E.I. // Surface and Coatings Technology. 2002. V. 149. P. 95
  3. Ахмадеев Ю.Х., Гончаренко И.М., Иванов Ю.Ф., Коваль Н.Н., Щанин П.М. // Письма в ЖТФ. 2005. Т. 31. В. 13. С. 24
  4. Панайоти Т.А. // ФХОМ. 2003. N 4. P. 70
  5. Полак Л.С., Овсянников А.А., Словецкий Д.И., Вурзель Ф.Б. // Теоретическая и прикладная плазмохимия. М.: Наука, 1975. 304 с
  6. Singh G.P., Alphonsa J., Barhai P.K., Rayjada P.A., Raole P.M., Mukherjee S. // Surface and Coating Technology. 2006. V. 200. P. 5807
  7. Muratore C., Leonhardt D., Walton S.G., Blackwell D.D., Fernsler R.F., Meger R.A. // Surface and Coatings Technology. 2005. V. 191. P. 255
  8. Abraha P., Yoshikawa Y., Katayama Y. // Vacuum. 2009. Vo. 83. P. 497
  9. Гаврилов Н.В., Каменецких А.С. // ЖТФ. 2007. Т. 77. В. 3. С. 12
  10. Каминский М. // Атомные и ионные столкновения на поверхности металла. М.: Мир, 1967. 506 с

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.

Учредители

Издатель

© 2024 Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук
Powered by webapplicationthemes.com - High quality HTML Theme