Исследовано воздействие электронного пучка и создаваемой им плазмы на структурно-фазовое состояние и микротвердость поверхности титана. Широкий диапазон регулировки тока пучка (0.1-2.5 A), энергии электронов (0.1-1 keV) и давления газа (0.01-1 Pa) был обеспечен использованием сеточной стабилизации эмиссионных свойств плазменного источника электронов и формированием широкого пучка (40 cm²) в слое пространственного заряда между пучковой плазмой и сеткой плазменного катода. Температура образцов (350-900^oC) задавалась параметрами электронного пучка, плотность плазмы дополнительно регулировалась изменением давления азота или смеси (N₂+Ar). Показано, что при низкотемпературном азотировании ионное распыление оказывает существенное влияние на величину микротвердости поверхности и скорость роста упрочненного слоя. Возможность азотирования при низком (-50 V) или плавающем потенциале образцов позволила избежать развития рельефа поверхности и проводить обработку в глубоких и узких пазах. PACS: 52.50.-b, 52.59.-f, 52.77.-j

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.