Вышедшие номера
О высокотемпературном диффузионном легировании пористого SiC
Мынбаева М.Г.1, Мохов Е.Н.1, Лаврентьев А.А.1, Мынбаев К.Д.1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Email: mgm@mail.ioffe.ru
Поступила в редакцию: 1 февраля 2008 г.
Выставление онлайн: 20 августа 2008 г.

Приводятся результаты экспериментов по высокотемпературному (2000-2200oC) диффузионному легированию ванадием и эрбием пористого SiC (PSC). Утверждается, что специфика диффузионных процессов, происходящих в PSC при таких температурах, определяется модифицированием пористой структуры за счет диффузии вакансий. На основании сопоставления полученных результатов с данными по низкотемпературной (900-1000oC) диффузии сделано предположение о различии механизмов диффузии в PSC при низких и высоких температурах диффузионного отжига. Сделан вывод о том, что пористая структура в SiC является эффективной средой именно для низкотемпературной диффузии. PACS: 61.43.Gt, 66.30.J-, 61.72.U-