Вышедшие номера
Фазовые переходы в тонких пленках оксида титана под действием излучения эксимерного лазера
Митрев П.1, Бенвенути Дж.1, Хофман П.1, Смирнов А.1, Калитеевская Н.1, Сейсян Р.1
1Политехническая школа, Лозанна, Швейцария Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, С.-Петербург, Россия
Email: Natalia.Kalit@ffm.ioffe.ru
Поступила в редакцию: 21 июня 2005 г.
Выставление онлайн: 20 октября 2005 г.

Было исследовано взаимодействие вакуумного ультрафиолетового излучения (ВУФ) ArF эксимерного лазера (длина волны 193 nm, длительность импульса 20 ns) с тонкими пленками аморфного оксида титана, выращенного методом лучевой газофазной эпитаксии. На основе спектров рамановского рассеяния до и после облучения показано, что облучение аморфной пленки оксида титана ВУФ-излучением ведет к кристаллизации сначала в анатаз, а затем в рутил при энергиях в импульсе 40-50 mJ/cm2.