Вышедшие номера
Гетероструктуры InGaN/GaN, полученные методом молекулярно-лучевой эпитаксии с использованием аммиака в качестве источника азота
Петров С.И.1, Кайдаш А.П.1, Красовицкий Д.М.1, Соколов И.А.1, Погорельский Ю.В.1, Чалый В.П.1, Шкурко А.П.1, Степанов М.В.1, Павленко М.В.1, Баранов Д.А.1
1ЗАО "Научное и технологическое оборудование", С.-Петербург
Email: support@semiteq.ru
Поступила в редакцию: 16 сентября 2003 г.
Выставление онлайн: 19 июня 2004 г.

Гетероструктуры InGaN/GaN выращены методом аммиачной молекулярно-лучевой эпитаксии. Исследовано влияние температуры и скорости роста на вхождение индия в слои и положение пика фотолюминесценции. На основе полученных результатов выбраны условия роста, которые можно считать базовыми для создания с помощью аммиачной молекулярно-лучевой эпитаксии слоев InGaN как материала активной области светодиодов сине-фиолетового диапазона.