Вышедшие номера
Начальные стадии формирования интерфейса кремний-железо
Гомоюнова М.В.1, Гребенюк Г.С.1, Попов К.М.1, Пронин И.И.1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Email: Igor.Pronin@mail.ioffe.ru
Поступила в редакцию: 28 ноября 2012 г.
Выставление онлайн: 20 марта 2013 г.

Методом фотоэлектронной спектроскопии высокого разрешения с использованием синхротронного излучения исследовано формирование интерфейса Si/Fe. Эксперименты проведены in situ в условиях сверхвысокого вакуума (3· 10-10 Torr) в диапазоне покрытий 0.04/0.45 nm. Обнаружено, что процесс начинается с формирования на поверхности железа силицида FeSi и твердого раствора Fe-Si. При дальнейшем увеличении покрытия твердый раствор перестраивается в ферромагнитный силицид Fe3Si и немагнитный силицид FeSi. Показано также, что термостимулированные твердофазные реакции, приводящие к перестройке силицидов FeSi и Fe3Si в полупроводниковый силицид beta-FeSi2, начинают протекать при температуре, близкой к 600oC.